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  • 花印舒緩修護面膜

    花印舒緩修護面膜
    • 成分表(共29種成分)
    花印舒緩修護面膜成分表來自備案信息
    低風險24種 中風險5種 高風險0種
    • 含有孕婦慎用:1種   ( PEG-60 氫化蓖麻油 )
    • 含有防腐劑:2種   ( 苯氧乙醇、 羥苯甲酯 )
    • 含有致痘風險:1種   ( 三乙醇胺 )
    名稱 安全等級 成分提示 作用
    1 溶劑
    甘油 2 保濕劑 溶劑
    丁二醇 1 保濕劑 溶劑 抗菌劑
    雙丙甘醇 2 保濕劑 溶劑
    PEG-60 氫化蓖麻油 3

    孕婦慎用

    表面活性劑 乳化劑 溶劑 清潔劑
    苯氧乙醇 4

    防腐劑

    防腐劑 抗菌劑
    出芽短梗酶多糖 1 成膜劑
    羥苯甲酯 4

    防腐劑

    防腐劑
    卡波姆 1 增稠劑 凝膠劑 乳化穩定劑
    三乙醇胺 6

    致痘風險 1

    pH調節劑
    甘草酸二鉀 1

    活性成分

    舒緩抗敏 抗炎劑 保濕劑
    黃原膠 1 增稠劑 乳化穩定劑
    香檸檬果油 2

    活性成分

    皮膚調理劑 柔潤劑
    EDTA 二鈉 1 螯合劑
    羥苯乙酯 3 防腐劑
    生育酚(維生素E) 1

    活性成分

    抗氧化劑 保濕劑
    透明質酸鈉 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑
    可溶性膠原 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電
    甜菜堿 1 保濕劑 抗靜電 黏度控制
    PCA 鈉 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電 頭發調理劑
    山梨(糖)醇 1 保濕劑 皮膚調理劑
    絲氨酸 1

    活性成分

    保濕劑 抗靜電
    甘氨酸 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑 抗靜電
    谷氨酸 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑
    丙氨酸 1

    活性成分

    抗氧化劑
    精氨酸 1

    活性成分

    pH調節劑 保濕劑 抗靜電劑 頭發調理劑
    賴氨酸 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑
    蘇氨酸 1

    活性成分

    保濕劑 皮膚調理劑
    脯氨酸 1

    活性成分

    皮膚調理劑
    花印舒緩修護面膜備案參數
    • 備案名稱:花印舒緩修護面膜
    • 備案編號:國妝備進字J20171593
    • 生產企業:株式會社科思美碧優蒂
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