卸妝 ¥99/150ml
花印清新凈顏卸妝水（抗糖化）
- 成分表（共15種成分）
花印清新凈顏卸妝水（抗糖化）成分表來自備案信息
低風險11種
中風險4種
高風險0種
- 含有致痘風險：1種 （ PEG-7 辛酸/癸酸甘油酯類 ）
- 含有防腐劑：2種 （ 甲基異噻唑啉酮、 羥苯甲酯 ）
- 含有風險：1種 （ 甲基異噻唑啉酮 ）
| 名稱 | 安全等級 | 成分提示 | 作用 |
|---|---|---|---|
| 水 | 1 | 溶劑 | |
| PEG-7 辛酸/癸酸甘油酯類 | 6 |
致痘風險 2 |
表面活性劑 乳化劑 |
| 丁二醇 | 1 | 保濕劑 溶劑 抗菌劑 | |
| 1,2-戊二醇 | 1 | 保濕劑 增溶劑 抗菌劑 | |
| PEG-6 辛酸/癸酸甘油酯類 | 3 | 乳化劑 柔潤劑 | |
| EDTA 二鈉 | 1 | 螯合劑 | |
| 甲基異噻唑啉酮 | 7 |
防腐劑 |
防腐劑 |
| 檸檬酸鈉 | 1 | pH調節劑 | |
| 檸檬酸 | 2 | pH調節劑 抗菌劑 去角質 | |
| 白樺樹汁 | 1 |
活性成分 |
舒緩抗敏 抗氧化劑 皮膚調理劑 |
| 羥苯甲酯 | 4 |
防腐劑 |
防腐劑 |
| 香橙果提取物 | 1 |
活性成分 |
皮膚調理劑 |
| 野大豆蛋白 | 1 |
活性成分 |
抗氧化劑 保濕劑 |
| 水解貝殼硬蛋白 | 1 |
活性成分 |
抗氧化劑 保濕劑 抗炎劑 |
| 薰衣草花提取物 | 1 |
活性成分 |
抗氧化劑 抗菌劑 皮膚調理劑 |
花印清新凈顏卸妝水（抗糖化）備案參數
- 備案名稱：花印清新凈顏卸妝水（抗糖化）
- 備案日期：2012-01-01
- 備案編號：國妝備進字J20122876
- 生產企業：花印
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